磷烷氢气混合气简介
磷烷是半导体器件制造中的重要 N型掺杂源,同时 磷烷还用于多晶硅化学气相沉淀、外延 Ga P材料、离子注人工艺、MO C V D工艺、磷硅玻璃(PSG)钝化膜制备等工艺中。无色,剧毒,易燃烧气体,带有令人生厌的大蒜味。
产品规格
气体 | 纯度 | 杂质含量(ppm) | 钢瓶 | 阀门 | 备注 |
1%PH3+H2 | 1+/-0.03% | PH3: 6N H2O≤0.1,CO2≤0.1,N2≤0.1,O2+Ar≤0.2,AsH3≤0.1,,THC≤0.1 | 48.8L | DISS632 | 100KGf/cm2 |
H2: O2+Ar≤0.1,N2≤0.1,CO≤0.1,CO2≤0.1,THC≤0.1,H2O≤0.1 | 440L | DISS632 |
产品用途
在电子气家族中,硅烷、磷烷、硼烷、砷烷应用量较大,是IC制造极为重要的原料。其中的磷烷是半导体器件制造中的重要 N型掺杂源,同时 磷烷还用于多晶硅化学气相沉淀、外延 Ga P材料、离子注人工艺、MO C V D工艺、磷硅玻璃(PSG)钝化膜制备等工艺中。
PH3:易燃、易爆、剧毒;其毒性数为:PEL/TLV 0.3×10, STEL 1×10,LC5020×1O,ZDLH200×10,属剧毒危害品。